多晶硅清洗用超純水處理設備關鍵技術EDI技術與反滲透技術的有機結合，達到連續除鹽、運行維護簡單、無酸堿排放污染。多晶硅片，半導體器件等清洗過程中所需的純水需要符合國家《電子級水質標準》18.2兆歐以上，目前最有效的制水工藝就是預處理加反滲透加EDI技術工藝。超純水處理設備已被多晶硅清洗行業廣泛應用。

典型工藝：